硅旋轉靶采用等離子噴涂或者燒結綁定工藝,尺寸根據客戶要求定制。
硅平面靶采用拉晶生長工藝,尺寸可根據客戶要求加工。
純度:99.9-99.999%應用領域:薄膜太陽能工業,低輻射玻璃工業,平板顯示工業,光學鍍膜工業,半導體工業,工具及裝飾鍍膜工業。